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一种不同气氛下电弧等离子体辅助低压渗氮方法

发布者：

系统发布

联系方式：

平台代办

申请（专利权）人：

华南理工大学

发明（设计）人：

价格类型：

面议

价格：

面议

专利号：

CN201510607534.5

分类名称：

专利类型：

发明

专利状态：

已下证

授权日期：

2018-01-16

合作方式：

专利转让

摘要：

本发明公开了一种不同气氛下电弧等离子体辅助低压渗氮方法,属于材料表面加工技术领域。首先利用电弧增强辉光放电产生的Ar⁺对热作模具表面进行离子刻蚀,去除材料表面的氧化物。而后炉内连续通入高纯N₂、高纯H₂、以及高纯Ar,保持炉内温度(300 500℃)和气压(0.2 1.0Pa)恒定,工件转平台接脉冲电源负极,进行等离子渗氮。渗氮层中化合物层厚度为0 2μm,硬度1000 1300HV_0.1,脆性等级小于1级,疏松级别小于1级。在渗氮过程中通有氢气和氩气,提高表面活性,降低气氛中的活性氮原子浓度,抑制化合物层的产生,降低硬度梯度。

附图：