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一种硬质合金表面磁控溅射复合技术沉积W-N硬质膜的方法

发布者：

系统发布

联系方式：

平台代办

申请（专利权）人：

华南理工大学

发明（设计）人：

价格类型：

面议

价格：

面议

专利号：

CN201810849879.5

分类名称：

专利类型：

发明

专利状态：

已下证

授权日期：

2021-06-08

合作方式：

专利转让

摘要：

本发明公开了一种硬质合金表面磁控溅射复合技术沉积W N硬质膜的方法。该方法先将基体研磨、抛光、超声清洗,然后对其表面进行离子清洗与刻蚀,而后在硬质合金表面沉积致密W N硬质膜过渡层,接着在过渡层上原位沉积W N硬质膜。本发明利用电弧增强辉光放电技术清洁基体表面,大幅度提高膜基结合力,其次在基体表面利用高功率脉冲磁控溅射技术沉积一层致密的W N硬质膜过渡层,进一步增强硬质膜结合强度,同时充当良好的热屏障和化学屏障。最终制备出摩擦性能优异、硬度高、表面平整、化学稳定性良好的W N硬质膜,有效提高硬质合金工件的综合性能和使用寿命。该硬质膜制备可控,制备方法简单,节能环保,易于实施,适合推广应用。

附图：