肇庆高新区知识产权综合服务平台

高孔隙率高模量抛光层及其制备方法与抛光垫及其应用

发布者：

系统发布

联系方式：

平台代办

申请（专利权）人：

广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院

发明（设计）人：

价格类型：

面议

价格：

面议

专利号：

CN202210044977.8

分类名称：

专利类型：

发明

专利状态：

已下证

授权日期：

2022-09-16

合作方式：

专利转让

摘要：

本发明公开了一种高孔隙率高模量抛光层及其制备方法与抛光垫及其应用。所述高孔隙率高模量抛光层为热固性聚氨酯抛光层,具有丰富的孔隙结构,所述孔隙结构包括大孔隙和小孔隙,并表现出高储能模量和低密度的特征,25℃下的储能模量为50 250MPa,可提高高孔隙率抛光垫的硬度和模量,有效改善高孔隙率抛光垫耐磨性能差、去除速率低、平坦度差的问题。所述制备方法采用湿法相分离、后进行交联固化的制备工艺,形成热固性聚氨酯抛光层,实现高孔隙率和高储能模量的统一。所述抛光垫包含所述高孔隙率高模量抛光层,实现了高平坦度和高去除速率的平衡,具有更长的使用寿命;所述的抛光垫可应用于光学衬底或半导体衬底抛光中。

附图：