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一种化学机械抛光垫

发布者：

系统发布

联系方式：

平台代办

申请（专利权）人：

广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院

发明（设计）人：

价格类型：

面议

价格：

面议

专利号：

CN202123092169.9

分类名称：

专利类型：

实用新型

专利状态：

已下证

授权日期：

2022-06-17

合作方式：

专利转让

摘要：

本实用新型公开了一种化学机械抛光垫。本实用新型的化学机械抛光垫包括上抛光层和下抛光层;所述上抛光层采用包括粘贴的方式设置在所述下抛光层的表面上,摒弃了缓冲层,使得该化学机械抛光垫可以直接使用;所述上抛光层为棱柱阵列层,且相邻的棱柱之间形成具有沟槽。从而无需采用铣削的方式加工开槽,减少原材料的浪费,降低抛光垫的制作成本,同时避免了铣削加工导致的碎屑在沟槽中的残留,提高生产的晶圆的质量。而且,所述上抛光层的棱柱为多边形棱柱,能提高抛光液分布均匀性,有效延缓抛光流出时间,提高抛光垫利用率。

附图：