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光刻胶组合物和应用、抗反射光刻胶层

发布者：

系统发布

联系方式：

平台代办

申请（专利权）人：

广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院

发明（设计）人：

价格类型：

面议

价格：

面议

专利号：

CN202310378566.7

分类名称：

专利类型：

发明

专利状态：

已下证

授权日期：

2023-11-03

合作方式：

专利转让

摘要：

本申请涉及高分子材料技术领域,特别涉及一种光刻胶组合物和应用、抗反射光刻胶层。本申请的光刻胶组合物含有主体成膜树脂、光致产酸剂、光吸收剂、交联剂和溶剂,光吸收剂选自式(Ⅰ)和式(Ⅱ)所表示的化合物中的一种或两种以上的混合物;其中Ar1和Ar2分别独立地选自C6~20的亚芳基。本申请的光刻胶组合物具有光吸收性,特别是在深紫外波长区域光吸收性强,曝光灵敏度高,可用于防止光刻工艺中因基板反射导致的不良影响。

附图：