肇庆高新区知识产权综合服务平台

刻蚀液及其制备方法、应用

发布者：

系统发布

联系方式：

平台代办

申请（专利权）人：

广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院

发明（设计）人：

价格类型：

面议

价格：

面议

专利号：

CN202111368823.6

分类名称：

专利类型：

发明

专利状态：

已下证

授权日期：

2023-03-14

合作方式：

专利转让

摘要：

本发明涉及一种刻蚀液,包含如下重量百分比的组分:磷酸70%~85%、硫酸0.1%~1.5%、四甲基氢氧化铵0.1%~5%、羟基乙叉二膦酸0.5%~6.8%、铵盐0.2%~8%、以及水6%~29.1%。上述刻蚀液能够高选择性地去除氮化硅膜,对氮化硅膜的刻蚀速率高,且在针对存储芯片中由氮化硅膜和二氧化硅膜组成的层叠结构中,能够抑制对二氧化硅膜的刻蚀,刻蚀液的寿命长且能适应存储器层叠结构层数快速增加的制造工艺。与传统的采用单一组分的磷酸水溶液作为刻蚀液相比,上述的刻蚀液对氮化硅膜的刻蚀选择比更大,刻蚀选择性更强。

附图：